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早期商业化的铂铝涂层的表面相结构可分为两类：(1) PtAl2连续分布的单相层；(2) PtAl2+(Ni，Pt)Al双相层。单相(Ni，内蒙纯银导电辊，Pt)Al铂铝涂层一般由低活性包埋渗铝或CVD制备获得，已经用作商业（EB-PVD）T***的粘结层，但其用作粘结层时，可能导致出现TGO起皱等现象。研究铝化物（外生长型，单相β-NiAl）、铂改性铝化物（外生长型，单相β-(Ni，Al)Pt）和MCrAlY涂层在三种温度下的循环氧化行为。

磁控溅射一般分为二种：直流溅射和射频溅射，其中直流溅射设备原理简单，在溅射金属时，纯银导电辊加工，其速率也快。

而射频溅射的使用范围更为广泛，除可溅射导电材料外，也可溅射非导电的材料，同时还司进行反应溅射制备氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。溅射靶材射频的频率提高后就成为微波等离子体溅射，目前常用的有电子回旋共振(ECR)型微波等离子体溅射。