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沈阳东创贵金属材料有限公司

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沈阳东创贵金属材料有限公司
第8年 |    
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经营模式: 生产加工
所在地区: 辽宁 沈阳
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浙江银焊片-银焊片厂-东创贵金属(推荐商家)

询盘留言|投诉|申领|删除 产品编号:586204306                    更新时间:2024-10-18
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  • 主营业务:贵金属材料
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  • 产品详情
  • 供货总量 : 不限
  • 价格说明 : 议定
  • 包装说明 : 不限
  • 物流说明 : 货运及物流
  • 交货说明 : 按订单

平面显示器(FPD)这些年来大幅冲击以阴极射线管(CRT)为主的电脑显示器及电视机市场,亦将带动ITO靶材的技术与市场需求。如今的iTO靶材有两种.一种是采用纳米状态的氧化铟混合后烧结,一种是采用铟锡合金靶材。铟锡台金靶材可以采用直流反应溅射制造ITO薄膜,但是靶表面会氧化而影响溅射率,并且不易得到大尺寸的台金靶材。如今一般采取方法生产ITO靶材,利用L}IRF反应溅射镀膜.它具有沉积速度快.且能控制膜厚,电导率高,薄膜的一致性好,与基板的附着力强等优点。

背靶的选择

对材质的要求:一般选用无氧铜和钼靶,厚度在3mm左右

导电性好:常用无氧铜,银焊片加工,无氧铜的导热性比紫铜好;

强度足够:太薄,易变形,哪里有银焊片,不易真空密封。

结构要求:空心或者实心结构;

厚度适中:3mm左右,太厚,消耗部分磁强;太薄,容易变形。

铟焊绑定的流程

1.绑定前的靶材和背板表面预处理

2.将靶材和背板放置在钎焊台上,升温到绑定温度

3.做靶材和背板金属化

4.粘接靶材和背板

磁控溅射靶材种类:金属溅射镀膜靶材,合金溅射镀膜靶材,陶瓷溅射镀膜靶材,硼化物陶瓷溅射靶材,碳化物陶瓷溅射靶材,氟化物陶瓷溅射靶材,氮化物陶瓷溅射靶材,银焊片厂,氧化物陶瓷靶材,硒化物陶瓷溅射靶材,硅化物陶瓷溅射靶材,浙江银焊片,硫化物陶瓷溅射靶材,碲化物陶瓷溅射靶材,其他陶瓷靶材,掺铬一氧化硅陶瓷靶材(Cr-SiO),磷化铟靶材(InP),铅靶材(PbAs),铟靶材(InAs)。

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