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沈阳东创贵金属材料有限公司
第9年 |    
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贵金属靶材厂家-沈阳东创【经验丰富】-上海贵金属靶材

询盘留言|投诉|申领|删除 产品编号:596351517                    更新时间:2025-04-27
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  • 物流说明 : 货运及物流
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溅射靶材ITO靶材的生产工艺 ITO靶材的生产工艺可以分为3种:热等静压法(HIP)、溅射靶材热压法(HP)和气氛烧结法。各种生产工艺及其特点简介如下:

热等静压法:ITO靶材的热等静压制作过程是将粉末或预先成形的胚体,在800℃~1400℃及1000kgf/cm 2~2000kgf/cm 2的压力下等方加压烧结。热等静压工艺制造产品密度高、物理机械性能好,但设备投入高,生产成本高,产品的缺氧率高。

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