| 企业等级: | 商盟会员 |
| 经营模式: | 生产加工 |
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溅射靶材ITO靶材的生产工艺 ITO靶材的生产工艺可以分为3种:热等静压法(HIP)、溅射靶材热压法(HP)和气氛烧结法。各种生产工艺及其特点简介如下:
热等静压法:ITO靶材的热等静压制作过程是将粉末或预先成形的胚体,在800℃~1400℃及1000kgf/cm 2~2000kgf/cm 2的压力下等方加压烧结。热等静压工艺制造产品密度高、物理机械性能好,哪家有金圆柱靶,但设备投入高,生产成本高,产品的缺氧率高。







加工工业里钼用得更广泛。高温下使用的模具受热、机械交变应力作用导致材料疲劳出现裂纹。而利用热膨胀系数小,哪里有金圆柱靶,导热强、高温强度好的钼或钼基合金,模具寿命大幅度延长。压铸手表壳等精巧零件时,寿命可达5000次,一般为3000次,轴承生产中钨板,钼板,钨棒,钼棒,金圆柱靶,钨管,钼管,钨坩埚,钼坩埚采用钼合金模具比原高速钢、轴承钢模具寿命提高15倍。

电导率σi和电子导电的电导率σe之比σi/σe≥0.01。
具有至少一层其至少部分所述导电性由离子导电性聚合物的组合物赋予的导电层的导电辊包括整个导电辊都由离子导电性聚合物赋予导电性的导电性橡胶组合物构成的导电辊以及由不同组成的多层构成的导电辊,而由不同组成的多层构成的导电辊中的至少一层由至少部分导电性由离子导电性聚合物的组合物赋予的导电性橡胶组合物构成,其他层则由离子导电性聚合物赋予导电性的导电层以外的橡胶等构成。


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