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磁控溅射就是以磁场束缚和延长电子的运动路径，改变电子的运动方向，提高工作气体的电离率和有效利用电子的能量。电子的归宿不仅仅是基片，真空室内壁及靶源阳极也是电子归宿。但一般基片与真空室及阳极在同一电势。磁场与电场的交互作用。使单个电子轨迹呈三维螺旋状，而不是仅仅在靶面圆周运动。但Pt在铂铝涂层中没有发挥扩散障的作用，涂层在服役期间与基体发生明显的互扩散反应，并致使难熔元素析出为TCP相。至于靶面圆周型的溅射轮廓，那是靶源磁场磁力线呈圆周形状形状。磁力线分布方向不同会对成膜有很大关系。 在E X B shift机理下工作的不光磁控溅射，多弧镀靶源，离子源，等离子源等都在次原理下工作。所不同的是电场方向，电压电流大小而已。

在铝化物涂层中加入Pt，增加了Al的扩散速率DAl，降低了其活度αAl，因而促进了Al从浓度较低的基体向浓度较高的涂层中的上坡扩散，减缓了涂层-基体互扩散所引起的铝贫化。Pt能够替代晶格中的Ni原子而降低涂层表面的Ni/Al比，降低形成保护性Al2O3膜的临界铝含量。在钠米晶镍层内存在的大量小晶界是基体合金与涂层元素的高速扩散通道，有利于形成成分梯度较均匀的外层与互扩散层。Pt能够降低S的有害作用，避免氧化膜-金属界面处空洞的形成，提高氧化膜的粘附力。

近十余年来，有关在镍基单晶高温合金上制备Pt改性铝化物涂层的研究已被广泛报道。但铂影响恒温氧化、循环氧化和抗热腐蚀性的具体机制及铂在涂层中的互扩散行为还有待进一步研究。3、清洗线（CleaningLine）：为有效脱脂而活化含酯的表面。文献采用电化学方法研究了在金属钨、钛、铼、锆及不锈钢和非金属玻碳等基体上电镀铂的初期形核阶段，发现Re基体不适宜电镀铂。

第三代及之后的镍基单晶高温合金含有Re达6 wt.%，且含有较多的Al和其它活泼性高的金属元素，这些元素在强酸性的电镀Pt液中易腐蚀，会影响铂镀层结合力和厚度均匀性。

磁控溅射原理

在被溅射的靶极(阴极)与阳极之间加一个正交磁场和电场，在高真空室中充入所需要的惰性气体磁铁在靶材料表面形成250～350高斯的磁场，同高压电场组成正交电磁场。Pt能够降低S的有害作用，避免氧化膜-金属界面处空洞的形成，提高氧化膜的粘附力。在电场的作用下，Ar气电离成正离子和电子，靶上加有一定的负高压，从靶极发出的电子受磁场的作用与工作气体的电离几率增大。

沈阳东创材料有限公司是东北大学黄金学院科技产业集团有限公司下属的国有全资企业，始创于1973年，是国内行业的企业之一。公司主要经营稀回收、提纯、加工；制造工业器件时，采用非熔化焊接方法，如热冲击焊、扩散焊及高温钎焊等，以避免熔化焊接时破坏强化相分布的弥散性而降低其使用性能。金属靶材及零部件、纪念章、饰品加工；矿山工程设计，机械设备安装、调试；金属材料批发、零售；自营和代理各类商品和技术的进出口。