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以含有氯原子的表橡胶为代表的橡胶组分，用于导电橡胶辊，以允许导电橡胶辊呈离子导电性。该情况下，含有氯原子的橡胶组分具有较高的表面自由能。因此，含有氯原子的橡胶组分容易粘附于色粉和用于色粉的添加剂上。当含有氯原子的橡胶组分与离子导电的单体聚合时，导电辊具有较高的表面自由能并且容易弄湿。因此粘附于导电橡胶辊的色粉量变得较高。当通过用紫外线照射其表面或者使其暴露于臭氧中，使导电橡胶辊的表面上形成氧化膜时，导电橡胶辊表面的氧浓度变得较高。所述择点测量机构包括一安装在机座上的第二驱动电机、一对安装在所述第二驱动电机上的第二传动轴、一安装在机座上并与所述第二传动轴平行的滑轨及若干安装在滑轨上的测点探针。

而未米的0.18um}艺甚至0.13m工艺，所需要的靶材纯度将要求达到5甚至6N以上。铜与铝相比较，铜具有更高的抗电迁移能力及更低的电阻率，能够满足！王水在溶解了***的溶液中有大量的残余和硝基物的存在给后续提炼或精炼***带来操作困难或失败，严重影响***的提炼或精炼工艺顺利进行，严重影响***回收率，故王水***溶液的浓缩赶硝是紧随溶解其后的务必工序。导体工艺在0.25um以下的亚微米布线的需要但却带米了其他的问题：铜与有机介质材料的附着强度低．并且容易发生反应，导致在使用过程中芯片的铜互连线被腐蚀而断路。

为了解决以上这些问题，需要在铜与介质层之间设置阻挡层。阻挡层材料一般采用高熔点、高电阻率的金属及其化合物，因此要求阻挡层厚度小于50nm，与铜及介质材料的附着性能良好。铜互连和铝互连的阻挡层材料是不同的．需要研制新的靶材材料。铜互连的阻挡层用靶材包括Ta、W、TaSi、WSi等．但是Ta、W都是难熔金属．制作相对困难，如今正在研究钼、铬等的台金作为替代材料。在***深加工产品这一领域，如何来提升***产品的技术含量和档次，***纳米技术、纳米材料的科学研究，实践应用是这个产业向产业化发展的方向，成为当代关注和竞争的主要课题。

超纯金属的检测方法极为困难。痕量元素的化学分析系指一克样品中含有微克级（10克/克）、毫微克级（10克/克）、微微克级（10克/克）杂质的确定。常用的手段有中子和带电粒子活化分析，原子吸收光谱分析，荧光分光光度分析，质谱分析，化学光谱分析及气体分析等。在单晶体高纯材料中，晶体缺陷对材料性能起显著影响，称为物理杂质，主要依靠在晶体生长过程中控制单晶平稳均匀的生长来减少晶体缺陷。硅片制造商对靶材的要求是大尺寸、高纯度、低偏析和细晶粒，这就要求所制造的靶材具有更好的微观结构。

人类社会的存在，科学技术的进步和发展，已成为21世纪***首要的战略储备物资，且与各国的政治经济和社会发展有着息息相关的紧密联系，在已知的传统产业和应用领域中，高纯材料、合金、各种深加工的制品（半成品）及化学制品，已被广泛应用到冶金钢铁，石油化工，有机化工，化工，电子电器，汽车制造，光学玻璃，玻璃纤维。采用聚氨酯橡胶、表氯橡胶等离子导电性橡胶(聚合物)或含有季铵盐等离子导电材料的离子导电性聚合物的组合物的方法。